За последнее время стандартная литография развилась до предела своих возможностей - дифракционных эффекты достигли влияния, искажающего получаемые структуры, также произошло совершенствование проекционной оптики, возникает необходимость увеличения точности при создании масок для изготовления все более мелких элементов и, как результат, значительное удорожание и без того дорогой техники - все это осложняет жизнь дальнейшему совершенствованию стандартных структур фотолитографии.

На данном фоне все большее совершенствуются относительно недорогие комплексы, которые используют технологию получения нанооттисков или микрооттисков.

Наноимпринтная литография (НИЛ) – относительно дешёвая технология создания технологического рисунка в высоком разрешении и на огромных площадях.
Основные плюсы НИЛ-технологии - маленький размер структур на выходе, значительная точность и воспроизводимость при переходах от одной пластины к другой и дублирование по всей их площади.

Особенное распространение получили три метода НИЛ - микроконтактная печать, УФ-наноимпринтная фотолитография, термоконтактная литография. Данные методы могут быть задействованы чтобы получить элемент, размер которого будет менее 100 нм.

В технологическом термоконтактной литографии полимер, благодаря которому реализуется масочный рисунок, увеличивает температуру выше температуры стеклования, после этого при высоком контактном усилии комбинируется со штампом.

УФ-наноипринтная фотолитография происходит при низких контактных усилиях прижима штампа и комнатных температурах.
Этот же процесс наблюдается при микроконтактной печати, но технологический рисунок в данном случае получается методом переноса вещества на пластину или подложку с мягкого штампа. НИЛ-методы имеют в настоящее время обширное применение в ряде сфер изготовления электронных компонентов – биотехнологиях, полупроводниковых технологиях, оптоэлектронике.